2013年11月,第十一届中国国际半导体博览会暨高峰论坛如期在上海举行。这是中国半导体产业一年一度的盛会。
国际展览馆里人头攒动,旻西科技的展厅格外醒目,科技感和未来感十足。他们的展厅面积比别家的要大了一倍,参观的游客也格外多。
这次旻西展出的产品不少,除了今年8月发布的智能手机旻西y4,还在展会上发布了公司第一款轻享版手机旻西z1。
z1的整体配置比y系列降了一档,属于低配版。
这款手机最大的优势就是价格便宜,16g的z1售价1399元,32g的是1899元,是专为收入水平较低的人群设计的智能手机。
另外还有今年4月份发布的平板电脑mxpad,两年更新一次的gpu和cpu,以及今年新出的lcd显示屏等。
总而言之,旻西把自家的明星产品都拿到博览会上来展览了。
晏旻和蔺征西花了一天时间在展览馆里转了一圈,认真看了各家新出的产品。尽管他们一向都为自己公司的产品骄傲,但也不得不承认,展会上还是有不少令人眼前一亮值得学习的产品。
来参加展览会的除了中国内地半导体产业的公司和工厂,还有不少港台地区和海外的一些知名企业,比如英特尔、阿斯麦尔、尼康、苹果、三星、台基电等。
旻西打算跟阿斯麦尔沟通一下,看能不能买到28纳米的光刻机。
手机芯片更新迭代太快了,目前市面上最先进的手机芯片包括旻西y4的芯片精度已经达到了28纳米。
而旻西芯片厂目前只有45纳米的光刻机,工艺制程也只突破到35纳米,所以他们已经无法为自己公司的最新款手机生产芯片了,不得不另外去找代工。
上海电子从2010年制造出45纳米的光刻机之后,就卡在了28纳米的光刻机制程上,三年了都还没任何突破的迹象。
光刻机越往后突破越难,目前突破这个精度的只有阿斯麦尔,连尼康都尚未突破,所以旻西短时间内想靠国产光刻机生产手机芯片是不可能了。
阿斯麦尔迄今已经推出了精度为20纳米的光刻机nxt:1970ci,据说正在攻克10纳米的光刻机,这对旻西来说,都是巨大的压力。
不管是芯片制造,还是手机处理器,业内都在朝着更为高精的刻度出发,尤其是手机处理器,如果不在第一梯队,那就意味着失去了竞争力。
如果旻西能够买到28纳米的光刻机并且实现工艺突破,至少在未来三四年以内,他们的手机芯片还能自行生产。
因为28纳米的光刻机理论上是可以生产14纳米的芯片的,当然,前提是他们能够突破这个工艺,就目前来说,还没有人突破14纳米的生产工艺。
蔺征
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